EMICRO-SP
Oficina USP de Fabricação de Circuitos Integrados MOS (Tecnologia SOI)
Curso oferecido no LSI/LME do Depto de Engenharia de Sistemas Eletrônicos da Escola Politécnica da USP

Responsáveis pela Oficina:

Prof. Dr. João Antonio Martino (LSI/PSI/USP)
Prof. Dr. Marcelo Carreño (LME/PSI/USP)
Profa. Dra. Paula Ghedini Der Agopian (UNESP)
Pesquisador Especialista de Laboratório: Ms. Ricardo Rangel (PSI/USP)

Escopo do curso

O curso apresenta uma abordagem prática e abrangente sobre a fabricação de circuitos integrados MOS em tecnologia SOI. Nesse contexto, os estudantes participam (em Sala Limpa) da sequência completa de fabricação de um Circuito integrado (CI) teste com transistores, diodos, capacitores e inversores, e se envolvem na pratica, com processos de fotolitografia, oxidação, implantação iônica, difusão térmica e deposição por plasma de filmes isolantes e metálicos. O curso também inclui aulas relativas ao projeto do processo de fabricação e caracterização elétrica dos dispositivos fabricados.

Tecnologia utilizada

A tecnologia SOI MOSFET é sucessora da tecnologia MOS convencional e na atualidade é padrão de fabricação nas principais indústrias de microeletrônica do mundo, como a Samsung, IBM e STMicroelectronics. Os dispositivos SOI fabricados no curso são de tipo nMOSFET e apresentam como principal característica a utilização de portas auto alinhadas de silício policristalino, num processo de fabricação que emprega apenas 3 etapas de fotolitografia. O processo em questão foi totalmente desenvolvido na Universidade de São Paulo (USP) e as aulas serão realizadas nas dependências do Laboratório de Microeletrônica (LME) e Laboratório de Sistemas Integráveis (LSI) da Escola Politécnica (EP) da USP. A tecnologia apresentada permite a fabricação de transistores SOI nMOSFET de até 0,5 µm


Vista ampla (acima) e detalhe (abaixo) de uma cascata de transistores SOI-MOSFET fabricados na Oficina-USP de fabricação de circuitos integrados

LISTA DE APROVADOS QUE CONFIRMARAM PRESENÇA.

O número de inscritos foi elevado e nos desculpamos caso não tenhamos atendido seu pedido neste momento. Os aprovados receberão um e-mail através do qual devem confirmar a presença e encaminhar um formulário devidamente preenchido com seus dados

  • Carlos Augusto Zan Malaguti
  • Caroline dos Santos Soares
  • Franciele Nornberg
  • Gabriel Alexandre Terra Almeida
  • Giovanni Antunes Bonin
  • Guilherme Carraro Carella
  • Gustavo Henrique Stedile Dartora
  • João Victor Barbosa Alves
  • Lucas Blanes
  • Luiza Souza Correa
  • Mateus Herculano Rabello Faria
  • Paulo Matheus Vinhas de Oliveira Santos
  • Rodrigo Henrique Gounella
  • Thiago Luiz de Almeida Cortiz

Público alvo

  • Alunos de graduação e pós-graduação em Eng. Elétrica, Física, Química, Tecnologia e afins.
  • Pesquisadores de centros de pesquisa em áreas afins com a microeletrônica e suas tecnologias
  • Profissionais da indústria em áreas afins com a microeletrônica e suas tecnologias


Venha fazer parte do seleto grupo de profissionais com conhecimento prático dos processos de fabricação e caracterização de CI’s e dispositivos integrados

Turmas anteriores



Data

Dias: 23 a 27 de julho de 2018

Inscrições

Encerradas

Divulgação dos candidatos aceitos: até 12 de junho.

Horários

Horário de Início: 08:30
Horário de Término: 18:00
Horário de almoço: 12:00 às 13:30

Vagas

Por questões operacionais/qualidade as turmas são limitadas em 12 alunos.

Oficinas "On demand"

São realizadas para grupos de alunos de Instituições de Ensino, Empresas e Centros de Pesquisa